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試料作製装置

薄膜試料作製装置

Cross Section Polisher EM-09100IS

日本電子応用技術者の
永年の経験に基づいた
夢の薄膜試料作製装置

EM-09100IS 製品図
イオンスライサによる薄膜試料作製の概念図
イオンスライサによる薄膜試料作製の概念図
  • 簡便な手順で電子顕微鏡用の薄膜試料を作製
  • 鏡面研磨やディンプルグラインダ処理をする必要がありません。
  • 矩冊状に試料を加工するだけでイオン研磨処理が行えます。(左図)
  • 柔らかい金属材料などでも歪が入りにくく、研磨時の破損も少ないので、効率よく試料作製が行えます。
  • 硬度差の大きい試料や複合材料、脆い試料の薄膜作製も行えます。

様々な試料が容易に作製できます

セラミックの断面 チタンの断面
セラミックの断面写真
写真を拡大
チタンの断面写真
写真を拡大
セラミックコンデンサの断面
セラミックスコンデンサ写真
写真を拡大

  主な仕様

  EM-09100IS
イオン加速電圧 1 ∼ 8kV
傾斜角 最大±6º(0.1ºステップ)
ビーム径 500μm(FWHM)
エッチングレート 5μm/min(加速電圧:8kV、Si換算)
使用ガス アルゴンガス
試料サイズ 2.8mm(長さ)×0.5 mm(幅)×0.1mm(厚さ)
圧力測定 ペニング真空計
主排気装置 ターボ分子ポンプ
CCDカメラ 内蔵
寸法・質量
本体 500mm(W)×600mm(D)×542mm(H)、63kg
ロータリーポンプ 150mm(W)×427mm(D)×230.5mm(H)、16kg
液晶ディスプレイ 326mm(W)×173mm(D)×380mm(H)、3.7kg

  設置条件

  EM-09100IS
電源 単相AC100∼120V±10%、50/60Hz、500 ∼ 600VA
接地端子 D種接地(100Ω以下)
アルゴンガス 使用圧力:0.15±0.05MPa(1.0 ∼ 2.0kg/cm²)
アルゴンガス使用流量:約0.2 cm
純度:99.9999%以上
ホース接続口: JIS B0203 Rc 1/8
※アルゴンガス(配管またはボンベ)およびレギュレータはお客様にてご準備下さい。
室温 20 ∼ 25℃(変動: 1℃/h以内)
湿度 60%以下

※外観・仕様は改良のため予告なく変更することがあります。
※装置設置用のテーブルをご準備下さい。

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